研究業績(論文・解説等)

基本情報

氏名(漢字) 𠮷門 進三
氏名(カナ) ヨシカド シンゾウ
氏名(ローマ字) YOSHIKADO Shinzo

DOI

 

ISSN国際標準逐次刊行物番号

 

論文名

Silicon Dioxide Thin Films Prepared by ArF Excimer Laser Chemical Vapor Deposition from Silicon Tetraacetate

著者名

吉門 進三

掲載誌名

Materials Chemistry and Physics

54

 

197-200

媒体区分

学術雑誌

発行年

1998

共著者氏名

@*. Tanaka

単著・共著区分

共著