研究業績(論文・解説等)

基本情報

氏名(漢字) 𠮷門 進三
氏名(カナ) ヨシカド シンゾウ
氏名(ローマ字) YOSHIKADO Shinzo

DOI

 

ISSN国際標準逐次刊行物番号

 

論文名

Titanium Implantation Profiles in Silicon Using Mrtal Plasma-based Ion Implantation Technique

著者名

吉門 進三

掲載誌名

Materials Chemistry and Physics

54

 

127-130

媒体区分

学術雑誌

発行年

1998

共著者氏名

@*. Koto

単著・共著区分

共著