研究業績(論文・解説等)

基本情報

氏名(漢字) 𠮷門 進三
氏名(カナ) ヨシカド シンゾウ
氏名(ローマ字) YOSHIKADO Shinzo

DOI

 

ISSN国際標準逐次刊行物番号

 

論文名

Electrical Characterization of Silicon Dioxide Thin Film Prepared by ArF Excimer Laser Chemical Vapor Deposition from Silicon Tetraacetate

著者名

吉門 進三

掲載誌名

 

36

 

150-153

媒体区分

学術雑誌

発行年

1997

共著者氏名

@A. Maruyama, K. Nakata, K. Yukimura

単著・共著区分

共著