研究業績(論文・解説等)

基本情報

氏名(漢字) 𠮷門 進三
氏名(カナ) ヨシカド シンゾウ
氏名(ローマ字) YOSHIKADO Shinzo

DOI

 

ISSN国際標準逐次刊行物番号

 

論文名

Evaluation of TiO2 Nanoparticle Thin Films Prepared by Electrophoresis Deposition

著者名

 

掲載誌名

Key Engineering Materials

485

 

165-168

媒体区分

 

発行年

2011

共著者氏名

◎R. Kawakami, Y. Ito, Y. Sato, M. Adachi, Y. Mori

単著・共著区分

共著