研究業績(論文・解説等)

基本情報

氏名(漢字) 𠮷門 進三
氏名(カナ) ヨシカド シンゾウ
氏名(ローマ字) YOSHIKADO Shinzo

DOI

 

ISSN国際標準逐次刊行物番号

 

論文名

Preparation and Evaluation of TiO2 Nanoparticle Thin Films by Electrophoresis Deposition

著者名

吉門 進三

掲載誌名

Key. Eng. Mater.

445

 

135-139

媒体区分

学術雑誌

発行年

2010

共著者氏名

◎K.Ito, Y. Sato, M. Adachi, Y. Mori

単著・共著区分

共著