研究業績(論文・解説等)

基本情報

氏名(漢字) 𠮷門 進三
氏名(カナ) ヨシカド シンゾウ
氏名(ローマ字) YOSHIKADO Shinzo

DOI

 

ISSN国際標準逐次刊行物番号

 

論文名

Recovery of the Damage on Silicon Surface Induced by RIE by Chemical Dry Etching with NF3 Gas

著者名

吉門 進三

掲載誌名

 

 

 

133-138

媒体区分

学術雑誌

発行年

1986

共著者氏名

@H. Tsukamoto

単著・共著区分

共著