研究業績(論文・解説等)

基本情報

氏名(漢字) 𠮷門 進三
氏名(カナ) ヨシカド シンゾウ
氏名(ローマ字) YOSHIKADO Shinzo

DOI

 

ISSN国際標準逐次刊行物番号

 

論文名

Etching Characteristics of LiNbO3 Crystal by Fluorine Gas Plasma Reactive Ion Etching

著者名

吉門 進三

掲載誌名

 

169170

4

203-207

媒体区分

学術雑誌

発行年

2003

共著者氏名

@M.Tamura

単著・共著区分

共著